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常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图 适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的超纯水系统 常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图 适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率（小于1000μs/cm），要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统 常用的...查看详情
前言 随着电子工业的发展，在芯片的生产加工过程中，对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路，除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外，高纯水也是其中最关键的因素之一。高纯水系统是将一般的市政用水处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。 超纯水系统总体来说一般可分为三个部分：超纯水制造区(CUB部分)、超纯水抛光循环区(FAB部分)、超纯水输送管网(FAB...查看详情
一、超纯水系统总体介绍 随着电子工业的发展，在芯片的生产加工过程中，对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路，除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外，高纯水也是其中最关键的因素之一。高纯水系统是将一般的市政用水处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。 超纯水系统总体来说一般可分为三个部分：超纯水制造区（CUB部分）；超纯水抛光循环区（FAB部分）；超纯水输送管网...查看详情
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一、?超纯水系统总体介绍? 随着电子工业的发展，在芯片的生产加工过程中，对于水质的要求也越来越高。为了保证生产出超大规模的集成电路，除高纯原材料、高纯气体、高纯化学药品外，高纯水也是其中最关键的因素之一。高纯水系统是将一般的市政用水处理成对不同离子的含量和颗粒度都有很高要求的超纯水。? 超纯水系统总体来说一般可分为三个部分：?超纯水制造区（CUB部分）；?超纯水抛光循...查看详情
超纯水设备系统主要工艺介绍 超纯水的电阻率大于18MΩ*cm或接近18.3MΩ*cm极限值，其几乎不含导电介质，并且水中不离解的胶体物质、气体及有机物也被去除至很低的程度。目前，超纯水设备主要应用于微电子、电力、光电、光伏、半导体、实验室以及其他领域。 为满足用户用水需求，持续获得符合要求的产水水质，尽可能减少各环节的水质污染，超纯水系统在工艺设计上大致分为预处理、反渗透、离子交换和终端处理四大步...查看详情
常用的电子超纯水系统工艺主要有三种，下面我们分别对这三种电子超纯水系统的优缺点进行分析： 1、第一种采用离子交换树脂，其优点在于初期投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。 2、第二种采用反渗透作为预处理，再配上离子交换设备，其特点为初次投资比采用离子交换树脂方式要高，但离子设备再生周期相对要长一些，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式...查看详情
电镀超纯水系统应用工艺多种多样，那我们在使用过程中应该选用哪种呢?下面为大家分享电镀超纯水系统应用工艺比较： 电镀超纯水系统与电镀混床超纯水设备相比，EDI技术是先进的超纯水制取工艺，出水水质更稳定，可以连续的生产符合用户要求的超纯水，不停机。也不需要酸碱再生，没有污水排放等困扰，运行费用低，但是前期采购成本要比混床系统高;而混床超纯水设备出水水质会随着使用时间相应下降，设备运行后期水质波...查看详情
超纯水主要应用于半导体生产中圆片的清洗，且用量较大，其制程也较为复杂为满足工艺设备对水质的要求，必须考虑输送材料、流速、合理的输送系统设计。圆片制造中设备需要的气体、纯水、化学品、冷却水都是通过管路输送的，因此，优质的超纯水系统管道依赖于优质工艺设计与施工管理。 超纯水的回收再利用已经成为超纯水系统管道设计必不可缺的一部分。一般而言，大部分指标都优于市政供水，只要有针对性地设计一些净化设备...查看详情
